CV-Messungen an geätzten epitaktisch gewachsenen Schichten - 9783838621104

Inhaltsangabe: Einleitung: In der heutigen Zeit werden in immer mehr Ger?ten Halbleiterbauelemente eingesetzt. Unter der Zielsetzung, m?glichst viele Strukturen auf einer Fl?che unterzubringen, haben sich ?tztechniken zu einem der wichtigsten Werkzeuge bei der Herstellung von Halbleiter-Mikrostrukturen entwickelt. Jede Weiterentwicklung der ?tztechnik erlaubt die genauere Kontrolle der ?tzrate, der Selektivit?t, der Flankensteilheit, der immer besseren Reproduzierbarkeit des ?tzvorganges und dergleichen mehr. Jede ?tztechnik sch?digt aber auch den zu ?tzenden Halbleiterkristall. So ist die Auswahl einer ?tztechnik ein Abw?gen der Vorteile und Nachteile. Dabei zeigt sich, da trotz der mehr als f?nfzigj?hrigen Forschung ?ber Halbleiter bzw. Halbleiterbauelemente auch heute noch neue Erkentnisse in diesem Bereich gewonnen werden. Ebenso m?ssen die vorhandenen physikalischen Modelle f?r die neuen Anforderungen und Techniken angepa t oder erweitert werden. Mit der zunehmenden Nutzung der in den siebziger Jahren entwickelten epitaktischen Herstellungsverfahren f?r Halbleiter, wie der Molekularstrahlepitaxie (MBE) und der Metall-Organischen Gasphasenepitaxie (MOCVD), ist es heute m?glich, Halbleiter-Heterostrukturen aus dem Gallium-Arsenid/Aluminium-Gallium-Arsenid-Materialsystem herzustellen. Solche Strukturen finden heute ihren Nutzen in der Herstellung von schnellen Bauteilen, wie sie in der Nachrichten- und Optoelektronik verwendet werden. Diese Diplomarbeit im Rahmen eines BMBF-Projektes 1 am Mikrostrukturzentrum der Universit?t Hamburg untersucht die durch einen LAIBE-Proze verursachte Sch?digung eines GaAs-Halbleiters. Ziel ist es die Art und Tiefe der Sch?den in Abh?ngigkeit von verschiedenen Parametern des CAIBE-Prozesses zu untersuchen. Die ?tzung findet in-situ in einer an die MBE-Anlage des Mikrostrukturzentrums Hamburg angeschlossenen Proze kammer statt. Die Dotierung des Halbleiters in Abh?ngigkeit von der Tiefe wird durch die CV-Me methode ermittelt.

Author: Björn Hoffmann

Publisher: Diplom.de

Publication Date: Jan 27, 2000

Number of Pages: 98 pages

Binding: Paperback or Softback

ISBN-10: 3838621107

ISBN-13: 9783838621104